我国修订后的《集成电路布图设计保护条例》公布：增加独创性声明要求，完善转让、许可、出质要求

8 月 3 日消息，据央视新闻今日报道，修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）近日公布，自 2026 年 10 月 15 日起施行。

《条例》旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展。《条例》共 6 章 54 条，修订的主要内容如下。

一是明确总体要求。规定集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，扩展保护范围，强调诚实信用。

二是完善申请、审查程序。规制虚假申请，细化材料要求，完善驳回、撤销程序，增加权利恢复程序。

三是加强专有权保护。明确权利范围界定标准，加大侵权赔偿力度。

四是促进布图设计运用。加强公共服务，明确奖酬措施，完善转让、许可、出质要求，规范共有人权利行使。

IT之家注意到，相关部门就《条例》有关问题答记者问：

《条例》在完善申请、审查程序方面作了哪些规定？

一是规定布图设计登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。二是增加独创性声明要求，并规定提交的复制件或者图样应当清楚地显示该布图设计具有独创性的部分。三是明确申请登记的布图设计明显不符合本条例规定的，应当驳回；布图设计获准登记后，任何人发现该登记不符合本条例规定的，可以请求撤销；登记被撤销的，该布图设计专有权视为自始即不存在。四是规定当事人因不可抗拒的事由或者其他正当理由延误本条例规定或者国务院知识产权行政部门指定的期限导致其权利丧失的，可以请求恢复其权利。

《条例》在加强专有权保护方面作了哪些规定？

一是规定受保护的布图设计以登记的复制件或者图样所显示的为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。二是规定侵权赔偿额按照权利人受到的实际损失或者侵权人获得的利益确定；难以确定的，参照许可使用费的倍数合理确定；情节严重的，适用惩罚性赔偿。

《条例》在促进布图设计运用方面作了哪些规定？

一是强调国务院知识产权行政部门应当会同有关部门采取措施，加强公共服务，促进布图设计运用。二是规定法人或者非法人组织主持创作布图设计，应当依照促进科技成果转化法等，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。三是完善转让、许可、出质要求。四是规定共有人对权利的行使有约定的从其约定；许可他人使用该布图设计收取的使用费应当在共有人之间分配。